基本參數
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品牌：
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Alpha |
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用途：
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半導體/EMC產品、 基板表面污染物清洗 |
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型號：
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AL-76 |
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加工定製：
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否 |
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類型：
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清洗機 |
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功率：
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1200 |
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適用星級：
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五星級 |
詳細說明
英展有限公司代理德國微波等離子清洗機設備， Alpha Plasma 研發和生產世界高質量的等離子系統，適用于半導體和復合材料工業的表面活化，清化和鍍膜工藝。
| 清洗EMC產品微波等離子vs 射頻 三大優勢 |
| 微波（Alpha Microwave） |
射頻（RF） |
| 可清洗尺寸75*244mm的EMC產品，清洗很乾淨 |
無法清洗，清洗不乾淨 |
| 針對EMC小杯子材料，能夠完全清洗到底部，無損傷 |
清洗EMC產品無優勢，杯子小，射頻清洗不到底部 |
| 腔體無污染，無需清洗腔體 |
由於再沉積導致基板或者腔體交叉污染，需要頻繁清洗 |
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微波等離子清洗機 AL76 的特點：
微波等離子清洗機 AL76 緊湊型
提升引線鍵合品質 提升塑封成形品質
提升裝片品質
提升倒裝芯片底部填充品質
可滿足360全芯片封裝
技術規範:
工作腔體: 鋁
容積 :76 公升
腔體尺寸 :寬 400 mm X 長 490 mm X 高 400 mm
腔體的門 :抽屜型，具有觀察口
微波功率 :2,45 GHz,可調範圍 50 至 1200 Watts
氣體供應 :3 個標準型的數字氣體流量控制器
真空規格 :Baratron, 1 - 1000 Pa
真空系統 :DN 63 ISO-K
真空閥門 :電-氣 節流閥
系統控制: PC, Windows, RS 232, USB, 以太網 (也適用於遠程控制) 10,4” 顯示器,觸摸屏, 圖形化的用戶界面軟件 Windows Office 可兼容:
現狀和錯誤信息,可存儲工藝數據和錯誤信息
工藝數據的輸出
工藝參數可進行圖形監控
自動和手動的操作模式
可選項真空泵 復合型真空泵,吸取能力 250 m3/h氣體管道 額外的數字氣體控制 (增加到4個) 可旋轉的工作台 鋁,350 mm, 速度可調節 ECR 設施 鋁,
帶有 磁性的機架裝置 設施 3/N/PE AC 50 Hz 400/240 V 16 A
尺寸 寬 1050 mm X 長 800 mm X 高 2020 mm (含指示燈)
重量 95 kg 不含泵 ; 260 kg 含泵
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